铁氰化钾化学发光体系测定利福平的研究

被引：12

作者：

张琰图

杨维平

章竹君

田穗康

机构：

[1] 陕西师范大学化学与材料科学学院

来源：

分析试验室 | 2003年 / 02期

关键词：

化学发光; 利福平; 流动注射; 铁氰化钾;

D O I：

10.13595/j.cnki.issn1000-0720.2003.0041

中图分类号：

O657.32 [可见和紫外分光光度法];

学科分类号：

摘要：

基于在NaOH碱性介质中 ,铁氰化钾可以直接氧化利福平产生化学发光这一现象 ,结合流动注射分析技术 ,提出了一种直接利用化学发光测定利福平的新方法。该方法测定利福平的线性范围为 0 .1～ 30mg/L ,检出限为 0 .0 6mg/L ,相对标准偏差为 3.0 % (n =1 1 ,ρ(利福平 ) =1 .5mg/L) ,方法已成功地用于胶囊及滴眼液利福平样品的分析

引用

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共 7 条

[1] 测定利福平的化学发光新体系 [J].