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等离子体化学基础
被引：3
作者：
胡征
机构：
[1] 南京大学化学化工学院
来源：
关键词：
射频溅射;
直流溅射;
板型;
低温等离子体;
PECVD;
基片温度;
磁控溅射;
电位分布;
二极溅射;
阴极鞘层;
溅射法;
粒子能量;
专家论坛;
表面磁场;
成膜技术;
D O I：
暂无
中图分类号：
O646.9 [等离子体化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
<正> 5.2 低温等离子体与成膜技术 随着科学技术的不断发展、进步,对具有特殊力、电、声、光、热、光—电和电磁等性质的尖端材料的要求与日俱增,其中厚度从单原子层到几个微米的薄膜以其固有的表面效应和特殊结构,具有有别于常规材料的性质,是各种尖端功能材料的巨大源泉,以薄膜构建的产品具有轻、薄、短、小、附加值高等优点,已被广泛应用于电子工业、太阳能利用、光学膜、精密机械装饰等各个领域。因此,至今人们已经发展了多种制
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