在织构Ni衬底上用电子束蒸发沉积YSZ阻挡层

被引：1

作者：

杨坚

宫声凯

舒勇华

刘慧舟

胡广勇

王晓华

机构：

[1] 北京有色金属研究总院超导中心

[2] 北京航空航天大学

来源：

低温物理学报 | 2002年 / 02期

关键词：

立方织构; 金属; 射线衍射分析; 金属材料; 电子束蒸发沉积; 阻挡层; 基片; 衬底; YSZ; Ni;

D O I：

暂无

中图分类号：

O511.4 [];

学科分类号：

摘要：

用轧制及再结晶方法制备了高度立方织构的金属Ni(镍 )基带 .采用电子束蒸发的方法在几个厘米长的Ni基带表面上生长YSZ(钇稳定二氧化锆 )阻挡层 .X射线衍射分析表明 ,YSZ层具有纯c轴取向和良好的平面内取向及立方织构 .扫描电镜观察表明 ,YSZ阻挡层连续致密无裂纹 .

引用

页码：92 / 95

页数：4

共 8 条

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