环境断裂的位错层次研究

被引:14
作者
高克玮
褚武扬
机构
[1] 北京科技大学,北京科技大学
关键词
环境断裂; 裂纹形核; 位错发射与运动;
D O I
暂无
中图分类号
学科分类号
摘要
从位错层次评述了断裂和环境断裂微裂纹的形核过程. 对于金属材料, 任何断裂过程( 韧断, 本质脆断, 氢脆, 应力腐蚀, 液体金属脆) 均以位错发射、运动为先导, 只有局部塑性应变发展到临界条件,应力集中使局部应力等于原子键合力时才出现微裂纹的形核. 环境( 氢, 腐蚀介质, 液体金属) 通过促进局部塑性变形引起低应力脆断. 不同环境促进位错发射、运动的原因不同
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