掺氮二氧化钛薄膜的常压化学气相沉积及其结构性能研究

被引：10

作者：

郭玉

张溪文

韩高荣

机构：

[1] 硅材料国家重点实验室浙江大学

来源：

真空科学与技术学报 | 2006年 / 03期

关键词：

常压化学气相沉积; 掺氮TiO2薄膜; 光催化性; 亲水性;

D O I：

10.13922/j.cnki.cjovst.2006.03.007

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

用常压化学气相沉积(APCVD)法,以四氯化钛(TiCl4)、氧气(O2)和氨气(NH3)作为气相反应先驱体,成功制备了掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明,氮掺杂在二氧化钛薄膜中引入Ti4O7相,抑制了锐钛矿相向金红石相的转变;氮掺杂促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。该工艺成本低廉,成膜速度快(150 nm/min),适用于工业化浮法玻璃生产线,产业化前景广阔。

引用

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