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对绝缘子表面电荷积聚机理的讨论
被引:46
作者
:
刘志民
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
西安交通大学
刘志民
邱毓昌
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机构:
西安交通大学
邱毓昌
冯允平
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机构:
西安交通大学
冯允平
机构
:
[1]
西安交通大学
来源
:
电工技术学报
|
1999年
/ 02期
关键词
:
电介质,表面电荷,积聚,机理;
D O I
:
10.19595/j.cnki.1000-6753.tces.1999.02.015
中图分类号
:
TM216.014.6 [];
学科分类号
:
摘要
:
从电磁场基本方程组出发,给出非均质介质中绝缘子表面电荷积聚的规律,揭示其物理本质和关键影响因素;研究了不同绝缘介质的交界面电荷积聚的方式和特点。用本文提出的理论可以解释文献报导的三种积聚模型,为分析绝缘子表面电荷积聚状况提供了理论依据。
引用
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页码:65 / 68
页数:4
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