深度紫外光刻图形精度模拟研究

被引：3

作者：

田扬超

机构：

[1] 中国科学技术大学国家同步辐射实验室安徽合肥

来源：

安徽师范大学学报(自然科学版) | 2005年 / 03期

关键词：

SU-8,菲涅耳衍射; 紫外光刻; MEMS;

D O I：

10.14182/j.cnki.1001-2443.2005.03.001

中图分类号：

O436.1 [干涉与衍射];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

UV-LIGA技术是制作大高宽比微电子机械(MEMS)的方法之一,而UV-LIGA技术的关键工艺之一为深度紫外光刻.由于紫外光衍射效应影响紫外光刻的微结构图形精度.本文主要研究了衍射效应对深紫外光刻精度的影响,并与实验结果进行了比较,理论模拟结果和实验比较吻合.因此,可以通过模拟结果得到不同厚度光刻胶的最佳曝光剂量,以便得到高质量的微结构图形.

引用

页码：253 / 257

页数：5

共 4 条

[1]

Micromachining applications of a high resolution ultrathick photoresist. Lee K Y,LaBianca N,Rishton S A. Journal of Vacuum Science and Technology . 1995

[2]

The LIGA process for fabrication of three-demensional microscale structure; interdisc. Bley P. Scientific Review . 1993

[3]

High aspect ratio resist for thick film applications. LaBianca N,Gelorme J D. Ptoc of SPIE . 1995

[4]

SU-8 based deep x-ray lithography/LIGA. Linke Jian,Yohames M,Desta,et al. Proceedings of SPIE the International Society for Optical Engineering . 2003

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