离子束轰击法金刚石薄膜抛光

被引：2

作者：

陈俊

杨保雄

王建军

吕反修

机构：

[1] 北京科技大学材料科学与工程系,北京科技大学材料科学与工程系,北京科技大学材料科学与工程系,北京科技大学材料科学与工程系

来源：

关键词：

金刚石; 薄膜; 离子束; 抛光/CVD-金刚石;

D O I：

10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

中图分类号：

O613.71 O462.5 [];

学科分类号：

070301 ; 081704 ;

摘要：

本文采用氩离子束轰击法,对不同晶体学表面形貌的CVD金刚石膜进行抛光处理。结果表明,对不同表面形貌的金刚石膜,应合理选择离子束轰击入射角,提高离子束加速电压有利于提高抛光效率,(100)择优生长的金刚石膜最容易得到高的表面平整度。

引用

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