适用于剥离工艺的光刻胶图形的制作技术及其机理讨论

被引：13

作者：

韩阶平

侯豪情

邵逸凯

机构：

[1] 中科院微电子中心!北京

来源：

真空科学与技术 | 1994年 / 03期

关键词：

剥离工艺; 光刻胶; 制作技术;

D O I：

10.13922/j.cnki.cjovst.1994.03.014

中图分类号：

TN305 [半导体器件制造工艺及设备];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

研究了AZ－1350胶的正、负转型和形成适用于剥离技术的倒台面图形的工艺技术，并对一些机理性问题进行了讨论。

引用

收藏

页码：215 / 219

页数：5

相关论文

共 2 条

[1] 超大规模集成电路工艺原理[M]. 电子工业出版社[美]甘地（Ghandhi,S·K·）著, 1986
[2] Hatzakis M. Solid State Technology . 1981