石墨烯专利技术国际研发态势分析

被引：18

作者：

马廷灿

万勇

冯瑞华

机构：

[1] 中国科学院国家科学图书馆武汉分馆(中国科学院武汉文献情报中心)

来源：

科学观察 | 2012年 / 7卷 / 03期

关键词：

石墨烯; 专利分析; 研发态势;

D O I：

10.15978/j.cnki.1673-5668.2012.03.003

中图分类号：

F416 [工业部门经济]; F204 [科学技术管理];

学科分类号：

020205 ; 0202 ; 020201 ;

摘要：

石墨烯是物理学、化学、材料科学等领域近年来的研究热点之一。因其集优异的电学、力学、光学、化学和热学等性能于一身,石墨烯已经成为一个备受关注、竞争非常激烈的新兴技术领域,近年来全球相关专利申请数量持续快速增长。该文基于DII数据库,利用TDA、Aureka等分析工具,对全球石墨烯相关专利进行了分析,揭示了全球石墨烯相关专利技术的研发和竞争态势。

引用

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