距离约束算法在微波天线面形测量中的应用

被引：3

作者：

王永强 ^{[1
]}

吕天剑 ^{[2
]}

吕乃光 ^{[2
]}

机构：

[1] 北京邮电大学电子工程学院

[2] 北京机械工业学院电信系

来源：

电子测量与仪器学报 | 2007年 / 21卷 / 01期

基金：

北京市自然科学基金;

关键词：

微波天线; 视觉测量; 面形测量;

D O I：

10.13382/j.jemi.2007.01.013

中图分类号：

TN822.4 [];

学科分类号：

080904 ;

摘要：

微波天线的工作面的加工精度直接影响其工作性能,因此,对加工后的工作面进行高精度的面形测量是必要的。一种新的基于距离相对约束的视觉测量方法被用于微波天线面形的高精度测量,测量程序可分为两步直接线性变换求初值和基于距离约束的最优化解算,解算过程中完成了透镜畸变的校正,其相对精度可达1/2,000,并用最小二乘法拟合了微波天线的面形。

引用

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