环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响

薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标 ,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响 ,采用XeCl脉冲准分子激光器 ,分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜 ,用TencorInstrumentsAlpha Step 2 0 0台阶仪对相应薄膜的表面粗糙度进行了测量。结果表明 ,薄膜表面粗糙度开始随着气压的增大而逐渐增加 ,在达到一最大值后便随着气压的增大而减小。由不同气体环境下的结果比较可以看出 ,充氩气所得Si薄膜表面粗糙度比充氦气的小 ,最大粗糙度强烈地依赖于气体种类。对于原子质量较大的氩气而言 ,其最大粗糙度仅比低气压时高出 11% ,而对于原子质量较小的氦气来说 ,其最大粗糙度比低气压时高出314 %。