高准确度玻璃光学元件的CMP技术研究

被引：4

作者：

陈勇 ^{[1
]}

李攀 ^{[2
]}

机构：

[1] 西北工业大学

[2] 飞行自动控制研究所

来源：

光子学报 | 2008年 / 12期

关键词：

玻璃光学原件; 超光滑表面; 化学机械抛光; 抛光垫; 运动机理分析;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

依据化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)加工玻璃光学元件的原理,通过对抛光运动机理的理论分析,提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响,并设计了新的工艺流程.通过工艺试验,完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工,获得了表面质量N<0.2,Rq<0.3nm的玻璃光学元件.

引用

页码：2499 / 2503

页数：5

共 5 条

[1] 自聚焦透镜高效批量加工的双面研磨抛光法研究 [J].