用于辅助镀膜的霍尔等离子体源

被引：5

作者：

尤大伟

黄小刚

武建军

机构：

[1] 中国科学院空间科学与应用研究中心

[2] 中国科学院空间科学与应用研究中心北京

[3] 北京

来源：

光学仪器 | 2001年 / Z1期

关键词：

光学镀膜; 离子束辅助镀膜; 等离子体加速;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

论述了该源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。设计采用了永久磁铁并利用极靴产生发散磁 ,沿轴向有较大梯度的磁场 ,又称该源为端部霍尔加速器。最后给出了束流及均匀区实测结果

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共 2 条

[1]

Technology of closed-Drifed Thrusters. H R Kaufman. AIAA Journal . 1983

[2]

End-Hall ion source. H R Kaufman,R S Robinson,R J Seddon. Journal of Vacuum Science and Technology . 1987