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溅射总压对氧化钒薄膜的结构及电致变色性质的影响
被引：5
作者：
王忠春
陈晓峰
李智勇
胡行方
机构：
[1] 中国科学院上海硅酸盐研究所
来源：
基金：
国家攀登计划;
关键词：
致变色，氧化钒薄膜，光学性质，磁控溅射;
D O I：
10.14062/j.issn.0454-5648.1999.01.005
中图分类号：
TQ174 [陶瓷工业];
学科分类号：
摘要：
采用高频磁控溅射工艺制备了两种不同性能的Ｖ２Ｏ５薄膜，并研究了溅射总压对其微观结构、循环伏安特性及电致变色特性的影响．结果表明：当功率一定（３．８Ｗ·ｃｍ－２）时，在高气压沉积的Ｖ２Ｏ５薄膜中出现了微晶相，而在低气压沉积的薄膜中为非晶相．从循环伏安过程中实时记录的透过率变化曲线可见：随着Ｌｉ＋离子和电子的双重注入，薄膜在某一波长处的透过率前一阶段是增加或降低，而后一阶段却相反．含微晶相的薄膜上述现象更为明显，而且其储存Ｌｉ＋离子的容量也要大许多．应用能带结构理论定性地解释了Ｖ２Ｏ５薄膜复杂的电致变色现象．
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