六甲基二硅胺烷对气相法白炭黑的表面改性

被引：17

作者：

汪齐方

李春忠

王志庭

杨化桂

康春雷

方图南

机构：

[1] 华东理工大学超细材料制备与应用教育部重点实验室

[2] 石家庄宝石电气硝子玻璃有限公司

[3] 华东理工大学超细材料制备与应用教育部

来源：

华东理工大学学报 | 2001年 / 06期

关键词：

气相法白炭黑; 六甲基二硅胺烷; 表面改性; 表面羟基;

D O I：

10.14135/j.cnki.1006-3080.2001.06.011

中图分类号：

O613 [非金属元素及其化合物];

学科分类号：

070301 ; 081704 ;

摘要：

在流化床反应器中 ,利用六甲基二硅胺烷 ( HMDS)对气相法制备的纳米二氧化硅进行了表面包覆 ,研究了包覆温度、包覆时间、HMDS分压等对纳米二氧化硅表面羟基、含碳量、p H值的影响 ,分析了表面包覆后气相法白炭黑的形态与结构。结果表明气相法白炭黑表面包覆 HMDS后 ,团聚状态得到明显改善 ;随着处理时间的延长 ,温度的升高以及 HMDS分压的升高 ,经表面处理后的白炭黑的 p H值和含碳量增加 ,表面羟基数明显减少。反应时间小于 1 5 min时 ,包覆速率较快 ,然后趋于平缓 ;反应温度小于 2 5 0°C时 ,温度对包覆效果影响较大 ,温度大于 40 0°C则影响较小 ;HMDS分压较低时 ,分压对包覆效果影响较大 ,当分压超过 7.9k Pa,则影响甚微

引用

页码：626 / 630

页数：5

共 9 条

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