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制备软X光多层膜的转速控厚法
被引：7
作者：
邵建达
范正修
金磊
郭永洪
机构：
[1] 中国科学院上海光机所
来源：
关键词：
膜厚监控;
转速控厚法;
软X光多层膜;
周期厚度随机误差;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
本文提出了一种新的监控软X光多层膜膜厚的方法——转速控厚法,利用这种方法镀制的设计周期厚度分别为8.4和10nm,周期数达50对和30对的W/C多层膜,经小角X光衍射测试,结果表明周期厚度随机误差在0.1nm左右。
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页数：5
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