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光刻机超精密工件台研究
被引:59
作者
:
朱煜
论文数:
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引用数:
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机构:
清华大学精密仪器与机械学系
朱煜
尹文生
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机构:
清华大学精密仪器与机械学系
尹文生
论文数:
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机构:
段广洪
机构
:
[1]
清华大学精密仪器与机械学系
来源
:
电子工业专用设备
|
2004年
/ 02期
关键词
:
押光刻机;
超精密;
工件台;
气浮导轨;
运动控制;
纳米;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号
:
1401 ;
摘要
:
针对步进扫描投影型光刻机超精密工件台开展研究熏所搭建的超精密气浮运动试验台采用气浮直线导轨支撑、直线电机驱动、直线光栅尺反馈组成大行程直线运动系统,其上叠加洛仑兹电机驱动的气浮微动台,提供对直线电机运动的精度补偿,由双频激光干涉仪提供粗、精动运动系统的超精密位置检测和反馈,两套直线运动系统可研究同步扫描运动,并可灵活地组成多种x-y超精密运动系统。介绍了基于该试验台进行的超精密运动控制试验研究,运动定位精度已经达到12nm
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页码:25 / 27+44 +44
页数:4
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