提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅰ)

被引：1

作者：

罗先刚

陈旭南

姚汉民

机构：

[1] 中国科学院光电技术研究所

来源：

关键词：

分辨力，焦深，大数值孔径和短波长，倾斜（离轴）照明，相移掩模，光瞳滤波，多焦面曝光，表面成像;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术、相移掩模技术、光瞳滤波技术、多焦面曝光技术以及表面成像技术的原理和现状作了较为详细的阐述，通过与现有技术及条件比较，提出了研制亚半微米光刻机应采用的技术途径．

引用

页码：28 / 31

页数：4