共 2 条
高比表面SiO2微粉的制备及微孔形成机理
被引：3
作者：
杨桦
赵敬哲
王莉玮
张丽华
王子忱
赵慕愚
彭婉茹
机构：
[1] 吉林大学化学系!长春，
[2] 长春医学高等专科学校药学系!长春，
来源：
关键词：
二氧化硅;
比表面;
微孔分布;
D O I：
暂无
中图分类号：
O647.11 [表面化学（界面化学）];
学科分类号：
070304 ;
081704 ;
摘要：
采用化学沉淀法合成超细SiO2，并用氮吸附静态容量法（BET）测量了样品的氮吸附等温线，计算出BET比表面和孔分布，用透射电镜观测了微孔的形态，对高比表面和微孔的形成进行了初步的探讨．
引用
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