ArF准分子激光光刻的研究现状

被引：5

作者：

宋登元

机构：

[1] 河北大学电子工程学院!保定

来源：

关键词：

光刻; 准分子激光; VLSI;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN24 [激光技术、微波激射技术]; TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

0803 ; 080401 ; 080901 ; 1401 ;

摘要：

１９３ｎｍＡｒＦ准分子激光光刻是２１世纪提高超大规模集成电路（ＶＬＳＩ）集成度的一项关键技术，已成为高技术领域的研究热点。作者从１９３ｎｍ激光光刻的光学系统设计、光学材料、光源、光致抗蚀剂及器件应用等方面综述了深紫外激光光学光刻技术的近期发展及应用。

引用

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