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陶瓷基片材料的研究现状
被引:20
作者
:
石功奇
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
重庆大学冶金及材料工程系
石功奇
王健
论文数:
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机构:
重庆大学冶金及材料工程系
王健
丁培道
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机构:
重庆大学冶金及材料工程系
丁培道
机构
:
[1]
重庆大学冶金及材料工程系
[2]
重庆大学冶金及材料工程系 重庆
[3]
重庆
来源
:
功能材料
|
1993年
/ 02期
关键词
:
陶瓷基片材料;
导热性;
氮化铝(A1N);
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文以当前电子设备、元件及配线电路的发展趋向为技术背景,重点针对导热性,比较了常用陶瓷基片材料的性能,并详细介绍了氮化铝(A1N)陶瓷基片材料的研究现状。
引用
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页码:176 / 180
页数:5
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[1]
电子陶瓷的新进展
[J].
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.
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1991,
(02)
:93
-99+128
[2]
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[3]
TRANSPARENT AIN CERAMICS
[J].
KURAMOTO, N
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;
TANIGUCHI, H
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TANIGUCHI, H
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JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS,
1984,
3
(06)
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