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非晶态硅的等离子体化学反应制备技术
被引:4
作者
:
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
林鸿溢
机构
:
[1]
北京工业学院电子工程系
来源
:
新技术新工艺
|
1987年
/ 02期
关键词
:
非晶态硅;
等离子体化学反应;
等离子体;
制备技术;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
非晶态硅是近十多年来迅速发展起来的新型电子材料。它在能源器件—太阳能电池等多种器件和集成电路中都有重要的应用。等离子体技术是一种新技术,其应用范围十分广阔,也是制备非晶态硅的主要方法。本文阐述了等离子体的产生及其特性,等离子体化学反应和非晶态硅薄膜的制备技术,给出了工艺参数和若干测量结果。
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