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电沉积制备镍箔的SEM形貌和抗拉强度
被引:13
作者
:
刘宇星
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机构:
中国科学院过程工程研究所,中国科学院过程工程研究所,中国科学院过程工程研究所,中国科学院过程工程研究所北京,北京,北京,北京
刘宇星
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郭占成
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卢维昌
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段岳
机构
:
[1]
中国科学院过程工程研究所,中国科学院过程工程研究所,中国科学院过程工程研究所,中国科学院过程工程研究所北京,北京,北京,北京
来源
:
过程工程学报
|
2004年
/ 04期
关键词
:
电沉积;
镍箔;
SEM形貌;
抗拉强度;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TF815 [镍];
学科分类号
:
080603
[有色金属冶金]
;
摘要
:
研究了电沉积法制取镍箔的实验条件,并对不同条件下得到的镍箔表面、断面SEM形貌以及抗拉强度进行了分析. 结果表明,动态条件下电沉积镍箔,能够显著提高其极限电流密度,此时SEM形貌显示沿电沉积箔的厚度增长方向,纯镍箔的晶粒逐渐增大. 加入5 g/L糖精能够有效地细化晶粒,并使镍箔表面更加光亮,其抗拉强度也有所提高.
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张纯江
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于升学
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于升学
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不详
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不详
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GEROCS, I
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BAKONYI, I
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崔鸿玉
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崔鸿玉
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熊毅
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MICROSTRUCTURE AND GROWTH OF ELECTRODEPOSITED NANOCRYSTALLINE NICKEL FOILS
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FOGARASSY, B
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