化学气相沉积法碳纤维表面连续涂覆B4C的研究

被引:8
作者
李德湛
李银奎
张红萍
龙永福
机构
[1] 国防科技大学材料工程与应用化学系!长沙
关键词
化学气相沉积; 碳纤维; 碳化硼;
D O I
暂无
中图分类号
TQ342 [合成纤维];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
以 H2 ,CH4,BCl3为原料气 ,用化学气相沉积 (CVD)法在碳纤维表面连续涂覆 B4C。通过对 CVD法各种影响因素 (沉积温度、反应物流量比、走丝速度 )的讨论 ,得到了最佳涂覆条件 :BCl3/ CH4=3/ 5 ,H2 过量 ,沉积温度110 0℃ ,走丝速度 1m/ min。对涂层物质进行定性分析后通过对涂层 Cf 和未涂层 Cf进行电镜观察 ,并做了差热分析和单丝强度测试 ,结果表明涂层效果较好 ,且抗热氧化性和单丝强度都有明显提高。
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页数:4
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共 3 条
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