基于专利交叉影响法的NBI会聚趋势分析

被引：5

作者：

苗红

黄鲁成

机构：

[1] 北京工业大学经济与管理学院

来源：

中国科技论坛 | 2014年 / 01期

基金：

国家自然科学基金重点项目;

关键词：

会聚技术; NBI; 会聚趋势; 交叉影响法; 专利;

D O I：

10.13580/j.cnki.fstc.2014.01.023

中图分类号：

G306 [专利研究]; F224 [经济数学方法];

学科分类号：

1201 ; 1204 ; 0701 ; 070104 ;

摘要：

应用基于专利的交叉影响法,从会聚深度的变化趋势和会聚广度的变化趋势两方面定量地分析纳米技术、生物技术、信息技术(NBI)三大技术间的会聚趋势。通过会聚深度分析得出了纳米、生物、信息技术各自领域内部及交叉领域内会聚深度不断增强的技术;通过会聚关系网络的动态变化分析得出了会聚广度不断扩大的关键技术。在此基础上为企业选择会聚技术的优先研发领域提出了对策建议,为政府促进会聚技术发展策略的制定提供支持。

引用

页码：134 / 139

页数：6

共 14 条

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