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A3钢基体磁控溅射离子镀铝膜的物相分析
被引:1
作者:
王玉魁
薛春
朱英臣
余广华
陈宝清
王斐杰
机构:
[1] 大连理工大学离子镀研究室
来源:
关键词:
离子镀;
金属薄膜;
相分析;
阴极溅射;
磁控管源/离子镀铝膜;
D O I:
暂无
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摘要:
本文应用 X射线衍射分析和电子衍射分析研究了A3钢基体磁控溅射离子镀铝 膜的相组成,结果表明,膜的相组成主要是基板负偏压所决定的。文中论述了正离子 对基板的溅射作用所引起的靶材原子和基板(基体)原子在基板上共同沉积的成膜机 理。
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