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单晶硅片的低温抛光技术
被引:15
作者
:
韩荣久
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机构:
不详
韩荣久
孙恒德
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机构:
不详
孙恒德
徐德全
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机构:
不详
徐德全
张云
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机构:
不详
张云
王立江
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机构:
不详
王立江
机构
:
[1]
不详
[2]
中科院长春光学精密机械研究所
[3]
不详
[4]
吉林工业大学机械工程学院
[5]
不详
来源
:
光学精密工程
|
1998年
/ 05期
关键词
:
低温抛光,抛光模层,抛光液;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN305.2 [表面处理];
学科分类号
:
摘要
:
介绍了一种光学材料抛光新技术——低温抛光技术。首先把抛光液冷冻成低温抛光模层,并对单晶硅片做抛光实验,实验结果表明这是一种很好的光学材料抛光方法。
引用
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页码:106 / 111
页数:6
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共 2 条
[1]
光学零件制造工艺学[M]. 机械工业出版社 , 曹天宁, 1987
[2]
低温技术与应用[M]. 科学出版社 , 舒泉声 编著, 1983
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