基于细管流紫外反应系统探讨紫外和真空紫外/紫外辐照下水中微量磺胺甲噻二唑的光降解效果

被引:5
作者
孙玉洁 [1 ,2 ]
李梦凯 [2 ]
林佳星 [3 ]
李文涛 [2 ]
张培玉 [1 ]
王永京 [3 ]
李津 [1 ]
强志民 [2 ]
机构
[1] 青岛大学环境科学与工程学院
[2] 中国科学院生态环境研究中心饮用水科学与技术重点实验室
[3] 北京工商大学食品学院
基金
国家重点研发计划;
关键词
细管流紫外反应系统(MFPS); 磺胺甲噻二唑; 反应速率常数; 量子产率;
D O I
10.13671/j.hjkxxb.2017.0463
中图分类号
X703 [废水的处理与利用];
学科分类号
摘要
水环境中存在的微量有机污染物可在较低浓度下对人类造成较大的危害.基于细管流紫外反应系统(MFPS)研究了典型微量有机污染物磺胺甲噻二唑(SML)在紫外(UV)和真空紫外/紫外(VUV/UV)辐照下的光降解过程,发现SML在VUV/UV辐照下的降解速率明显快于UV辐照.采用MFPS测定了各光化学动力学参数:UV和VUV/UV辐照下光子剂量基反应速率常数分别为0.88×10~3和4.64×10~3m2·einstein-1;量子产率分别为0.227和0.379;羟基自由基(HO·)和SML的二级反应速率常数测定为6.59×10~9L·mol-1·s-1.探讨了pH值和初始SML浓度对降解效果的影响,结果表明,VUV/UV辐照下pH 7.0时的SML降解速率达到最大,而UV辐照下SML的降解速率随pH增加而逐渐增大;初始SML浓度的增大会降低UV和VUV/UV辐照下的降解速率.此外,本研究表明MFPS作为实验室光反应系统可快速、准确地测量各光反应动力学参数,VUV/UV在去除水中微量有机污染物方面的效果优于UV,可较好的处理水中微量有机污染物.
引用
收藏
页码:1851 / 1857
页数:7
相关论文
共 13 条
  • [1] 紫外/真空紫外反应器对磺胺类抗生素的去除研究
    王琛
    李梦凯
    阎荣雷
    赵晓辉
    强志民
    [J]. 中国给水排水, 2016, 32 (09) : 53 - 57
  • [2] 原位在线紫外线强度测试平台对紫外线消毒系统的测试及应用
    李梦凯
    强志民
    史彦伟
    施亮
    李金玉
    [J]. 给水排水, 2011, 47 (08) : 26 - 31
  • [3] Sulfamethazine degradation in water by the VUV/UV process: Kinetics, mechanism and antibacterial activity determination based on a mini-fluidic VUV/UV photoreaction system[J] . Mengkai Li,Chen Wang,Miaoling Yau,James R. Bolton,Zhimin Qiang.Water Research . 2017
  • [4] UV photolysis kinetics of sulfonamides in aqueous solution based on optimized fluence quantification[J] . Junfeng Lian,Zhimin Qiang,Mengkai Li,James R. Bolton,Jiuhui Qu.Water Research . 2015
  • [5] Kinetic study and modeling of the vacuum-UV photoinduced degradation of 2,4-D[J] . Gustavo Imoberdorf,Madjid Mohseni.Chemical Engineering Journal . 2012
  • [6] Medium pressure UV combined with chlorine advanced oxidation for trichloroethylene destruction in a model water
    Wang, Ding
    Bolton, James R.
    Hofmann, Ron
    [J]. WATER RESEARCH, 2012, 46 (15) : 4677 - 4686
  • [7] Transformation kinetics of biochemically active compounds in low-pressure UV Photolysis and UV/H2O2 advanced oxidation processes
    Baeza, Carolina
    Knappe, Detlef R. U.
    [J]. WATER RESEARCH, 2011, 45 (15) : 4531 - 4543
  • [8] Photo-removal of sulfamethoxazole (SMX) by photolytic and photocatalytic processes in a batch reactor under UV-C radiation ( λ max =254nm)[J] . Deniz Nasuhoglu,Viviane Yargeau,Dimitrios Berk.Journal of Hazardous Materials . 2010 (1)
  • [9] Photodegradation of pharmaceuticals and personal care products during UV and UV/H2O2 treatments
    Kim, Ilho
    Yamashita, Naoyuki
    Tanaka, Hiroaki
    [J]. CHEMOSPHERE, 2009, 77 (04) : 518 - 525
  • [10] Photocatalytic oxidation of sulfamethazine[J] . S. Kaniou,K. Pitarakis,I. Barlagianni,I. Poulios.Chemosphere . 2004 (3)