光学光刻中的离轴照明技术

被引：22

作者：

郭立萍

黄惠杰

王向朝

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所

[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所上海

[3] 上海

来源：

关键词：

光学光刻; 离轴照明; 分辨率; 焦深; Prolith仿真;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405 [制造工艺];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照明与传统照明作了比较 ,并用Prolith仿真软件进行了模拟分析。研究表明 ,离轴照明是一种很有效的光刻分辨率增强技术。

引用

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