采用放大的自发辐射光源测试光学薄膜的损伤阈值

被引:2
作者
周琼
张志祥
孙明营
姚玉东
彭宇杰
刘德安
朱健强
机构
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室
关键词
激光光学; 放大的自发辐射; 部分相干性; 损伤阈值测试; 均匀的光强分布;
D O I
暂无
中图分类号
TN249 [激光的应用];
学科分类号
摘要
提出了一种精确评估光学薄膜损伤阈值的方法。放大的自发辐射(ASE)光源由于时间相干性和空间相干性较差,所以在近场区域光场强度分布均匀,聚焦后远场也没有被非均匀调制。采用ASE光束作为光学元件损伤阈值测试的辐照光源,可以提高辐照光源的均匀度,实现对光学薄膜损伤阈值的精确评估。ASE光源由神光II高功率激光装置的一级钕玻璃棒状放大器输出,脉宽经过光电开关调制后为9ns,能量输出在几毫焦耳到几十焦耳范围内可调节,光谱半峰全宽(FWHM)为1nm。根据标准ISO-11254,实验获得ASE测试TiO2高反膜的损伤阈值为15.1J/cm2,高于激光测试样品的损伤阈值7.4J/cm2(脉宽为9ns时),更准确地评估了样品的损伤阈值。
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