共 1 条
离子能量和沉积温度对离子束沉积碳膜表面形貌的影响
被引：2
作者：
廖梅勇
秦复光
柴春林
刘志凯
杨少延
姚振钰
王占国
机构：
[1] 中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室!北京
[2] 中国科学院半导体研究所半导体材料科学实
来源：
关键词：
非晶碳;
表面形貌;
质量分离低能离子束;
D O I：
暂无
中图分类号：
O485 [表面物理学];
学科分类号：
070205 ;
0805 ;
080502 ;
0809 ;
摘要：
利用质量分离的低能离子束沉积技术 ,得到了非晶碳膜 .所用离子能量为 5 0— 2 0 0eV ,衬底温度从室温到80 0℃ .在沉积的能量范围内 ,衬底为室温时薄膜为类金刚石 ,表面非常光滑 ;而 6 0 0℃下薄膜主要是石墨成分 ,表面粗糙 .沉积能量大于 140eV ,80 0℃时薄膜表面分立着高度取向的、垂直衬底表面、相互平行的开口碳管 .用高分辨电子显微镜看到了石墨平面的垂直择优取向 ,离子的浅注入和应力是这种优先取向的主要机理 .
引用
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页码：1324 / 1328
页数：5
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