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表面覆膜SnO半导体氢敏元件
被引:2
作者
:
穆宝贵
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0
机构:
哈尔滨通江晶体管厂
穆宝贵
黎丽琳
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机构:
哈尔滨通江晶体管厂
黎丽琳
机构
:
[1]
哈尔滨通江晶体管厂
来源
:
传感器技术
|
1991年
/ 01期
关键词
:
半导体气敏;
覆膜处理;
D O I
:
10.13873/j.1000-97871991.01.007
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
在制备烧结体SnO2半导体气敏元件的基础上,对元件表面进行了覆膜处理,得到具有高选择性的氢气敏感元件。
引用
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页码:31 / 34
页数:4
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