低折射率SiO2光学增透薄膜的结构控制

被引：15

作者：

吴广明

王珏

沈军

杨天河

赖珍荃

张会林

张勤远

范滨

周东平

张凤山

机构：

[1] 同济大学波耳固体物理研究所!上海

[2] 不详

[3] 同济大学波耳固体物理

来源：

原子能科学技术 | 1999年 / 04期

关键词：

溶胶-凝胶工艺,SiO2,增透薄膜,折射率;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

以正硅酸乙酯（ＴＥＯＳ）为有机硅源，采用溶胶凝胶技术，通过调节溶胶的ｐＨ和掺入有机添加剂，对ＳｉＯ２溶胶生长过程进行结构裁剪，控制ＳｉＯ２纳米颗粒尺度，制备出低折射率（１１５～１．１８）ＳｉＯ２光学增透薄膜。分别采用椭偏仪、分光光度计、扫描和透射电镜等对所制备薄膜的结构、物性进行研究。研究结果表明：改变ＳｉＯ２溶胶ｐＨ可有效抑制颗粒生长，且保持原有的微结构；掺入有机偶联添加剂能使颗粒迅速增大。

引用

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