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化学镀铜溶液稳定机理的研究
被引：4
作者：
许盛光
机构：
[1] 电子工业部第研究所
来源：
关键词：
二价铜离子;
柠檬酸钠;
Cu;
循环反应;
化学镀铜;
过渡态络合物;
络合剂;
EDTA;
络合试剂;
酒石酸钾钠;
槽液;
厌氧条件;
一价铜;
稳定机理;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
在厌氧条件下,测得了化学镀铜槽液中的不稳定中间络合物二—(2,2’—联吡啶)合铜(Ⅰ)络离子的电子光谱,测定了其生成及氧化动力学数据,提出了循环反应稳定机理,并研究了主盐与主络合剂及稳定剂的热力学稳定性之间的关系,指出研究提高化学镀铜槽液稳定性的一些原则。
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