光盘反射层纳米Al膜性能研究

被引：15

作者：

刘波

阮昊

干福熹

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院上海光学精密机械研究所上海,上海,上海

来源：

关键词：

反射膜; Al; 溅射条件; 光学常数;

D O I：

暂无

中图分类号：

TP333.4 [光存贮器及其驱动器];

学科分类号：

140102 [集成电路设计与设计自动化];

摘要：

利用原子力显微镜 (AFM)和椭圆偏振仪研究了溅射条件对纳米 Al薄膜性能的影响。研究表明 ,随溅射 Ar气压的增大 ,纳米 Al膜的表面粗糙度增加 ,折射率降低 ,反射率减小 ,这与薄膜的结构变化密切相关 ;随溅射功率的增大 ,纳米 Al膜的表面粗糙度增加 ,而其光学常数的变化则不明显。

引用

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