氮气氛下电火花沉积TiN层的形成机理及微观特征

以工业纯钛TA2为电极,用N2作为反应及保护气体,采用电火花沉积方法,在45钢基体表面制备出了含TiN的硬质沉积层。采用金相显微镜、扫描电镜和X射线衍射等分析检测方法,对沉积层形成机理、微观结构及界面行为进行研究,并测试了沉积层的显微硬度分布。结果表明,电火花氮化沉积层与基体形成良好的冶金结合,沉积层主要由TiN相组成,组织致密、均匀、较连续,厚度为30～40μm,显微硬度最高达1515 HV,是基体硬度的5倍以上,可以有效地改善基体的表面性能。