本底真空度对非平衡磁控溅射C/Cr复合镀层性能的影响

被引：6

作者：

郭巧琴 ^{[1
,2
]}

李建平 ^{[1
]}

蒋百灵 ^{[2
]}

李洪涛 ^{[2
]}

机构：

[1] 西安工业大学材料与化工学院

[2] 西安理工大学材料科学与工程学院

来源：

功能材料 | 2009年 / 40卷 / 10期

关键词：

C/Cr复合镀层; 硬度; 耐蚀性; 结合力; 摩擦系数;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174.4 [金属表面防护技术];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

采用非平衡磁控溅射在GW93镁合金表面制备了镀C/Cr复合镀层,分析了不同本底真空度下在GW93镁合金表面进行非平衡磁控溅射镀C/Cr复合镀层的硬度、耐蚀性、膜基结合力,摩擦系数等。结果表明,非平衡磁控溅射镀C/Cr复合膜层,本底真空度在8.8×10-3～1.0×10-1Pa范围内,镀层硬度与本底真空度成反比,当其为8.8×10-3Pa时,镀层硬度最低为1397Hv0.05,镀层使基体自腐蚀电位提高到-0.940V,显著改善镁合金的耐蚀性,结合力最高可达8.11N,镀层的摩擦系数最低达到0.05。本底真空度对C/Cr复合镀层相组成没有显著影响,不同真空度下的C/Cr复合镀层均以非晶为主。

引用

页码：1750 / 1753

页数：4