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热解涂层石墨平台无火焰原子吸收法测定痕量锗
被引：8
作者：
王克初
向一明
机构：
[1] 地质矿产部矿产综合利用研究所
[2] 地质矿产部矿产综合利用研究所 蛾眉
[3] 蛾眉
来源：
关键词：
基体改进剂;
石墨平台;
NaOH;
原子化温度;
灰化温度;
普通石墨管;
痕量;
涂层;
热解;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
<正> 近年来用石墨炉原子吸收法测定微量Ge已有报导,但篇数不多。测定Ge的困难主要在1150℃的石墨炉内Na2GeO3被还原为Ge,高于1300℃时Ge被氧化为GeO,易挥发损失影响分析灵敏度。如何避免挥发损失,是人所关注的课题。Mino等人用NaOH作基体改进剂,在镀钽层石墨管中原子化,Burns和Dadgar用NaOH作基体改进剂,热解涂层石墨管直接测定有机锗化合物中Ge。国内以氨水、镍-草酸铵一氢氧化铵作基体改进剂,但均需采用萃取
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