离子注入和离子束分析在金属中的应用

被引:5
作者
邹世昌
林成鲁
机构
[1] 中国科学院上海冶金所
关键词
离子注入; 抗腐蚀性; 钢中; 杂质原子; 离子掺杂; 离子轰击; 离子束; 粒子束; 氧化膜; 金属材料; 金属表面;
D O I
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中图分类号
学科分类号
摘要
<正> 前言近十年来,离子注入和离子束分析的发展非常迅速,在成功地、广泛地应用于半导体科研生产的同时,不断扩大其新的应用领域,显示出其独特的优越性和发展的生命力。近几年一个引人注目的新发展是离子注入和离子束分析被应用于金属材料中,世界上许多国家,尤其是英国、美国、日本、西德等,在这方面进行了大量的探索研究。国际性的学术会议,除了已经召开的六届“在半导体与其它材料中离子注入”会议以及三届“离子束表面分析”会议中有不少关于金属方面的研究报告外,近几年还专门召开了两次“离子注入和离子束分析技术
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共 2 条
[1]  
Ion implantation a powerful technique for the production of metastable superconducting alloys[J] . G. Heim,B. Stritzker.Applied Physics . 1975 (4)
[2]  
Third Inter. Conf. on Ion Beam Analysis .2 . 1978