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氮化铝薄膜的低温沉积附视频
被引：17
作者：
孙剑
吴嘉达
应质峰
施维
凌浩
周筑颖
丁训民
王康林
李富铭
机构：
[1] 复旦大学物理系三束材料改性国家重点实验室!上海
来源：
关键词：
氮化铝;
低温沉积;
薄膜;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN304 [材料];
学科分类号：
080906 [电磁信息功能材料与结构];
摘要：
介绍了一种 ECR微波放电和脉冲激光沉积相结合低温沉积 Al N薄膜的新方法 .在 ECR氮等离子体环境中用脉冲激光烧蚀 Al靶 ,以低于 80℃的衬底温度在 Si衬底上沉积了 Al N薄膜 .结合样品表征和等离子体光谱分析 ,探讨了膜层沉积的机理 ,等离子体中活性氮物质的存在是 Al- N化合的重要因素 ,等离子体对衬底的辐照促进膜层的形成
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页数：4
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