硬度合金基体上CVD金刚石薄膜的形态表征

被引：9

作者：

匡同春

刘正义

周克崧

代明江

王德政

张宁冯碧

机构：

[1] 华南理工大学实验中心,广州有色金属研究院

来源：

功能材料 | 1997年 / 01期

关键词：

CVD金刚石膜,硬质合金,残余应力,点阵畸变,嵌镶块尺寸;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB383 [特种结构材料];

学科分类号：

080906 [电磁信息功能材料与结构];

摘要：

采用ＳＥＭ、Ｒａｍａｎ光谱、ＸＲＤ等测试方法，对直流等离子体射流ＣＶＤ法在硬质合金基体上合成的金刚石膜进行了形貌和结构分析。结果表明，该方法合成的金刚石膜形貌和质量受基体表面上的温度梯度、化学物质（原子氢、碳氢基团等）浓度梯度的影响较大。膜层内存在ＧＰａ数量级的残余压应力，微观应力很小。嵌镶块尺寸为纳米数量级，且随甲烷浓度增高而减小，由此而估算的位错密度统计平均值达１０１０ｃｍ－２数量级。综合ＸＲＤ和Ｒａｍａｎ光谱结果，可见点阵畸变与金刚石拉曼锐峰的半高宽二者随甲烷浓度变化有相似的变化规律

引用

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