CVD金刚石膜的结构分析

被引：13

作者：

刘存业

刘畅

机构：

[1] 西南师范大学物理学系

[2] 拉特格斯大学物理与天文学系

来源：

物理学报 | 2003年 / 06期

关键词：

金刚石膜; 化学气相沉积; x射线掠入射; 正电子湮没谱;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN304.055 [];

学科分类号：

摘要：

利用x射线广角衍射和低角掠入射散射谱、正电子湮没谱、定性分析软件和Positronfit程序 ,研究了生长在Si( 10 0 )基底上的金刚石膜微结构 .研究发现 ,在样品邻近基底区域为纳米多晶结构 ,具有弱的 [111]织构 ;在邻近表面区域为微米多晶结构 ,具有强的 [2 2 0 ]织构 .金刚石膜样品有空位、空位团和空洞 3种缺陷 ,其中主要缺陷是大约 10个空位形成的空位团

引用

页码：1479 / 1483

页数：5

共 5 条

[1] Ar+离子束轰击在石墨表面形成六方金刚石纳米晶的研究 [J].