等温结晶化条件对氟化孔洞聚丙烯膜电荷稳定性的显著影响

被引:4
作者
姚俊兰
安振连
毛明军
张冶文
夏钟福
机构
[1] 同济大学波耳固体物理研究所
关键词
孔洞聚丙烯膜; 电荷稳定性; 氟化; 等温结晶化条件;
D O I
暂无
中图分类号
O482.4 [电学性质];
学科分类号
070205 ; 0805 ; 080502 ; 0809 ;
摘要
基于开路热刺激放电电流和电荷等温衰减测量系统地研究了等温结晶化条件对氟化孔洞聚丙烯(PP)膜电荷稳定性的影响.结果表明等温结晶化温度和时间对氟化PP膜的电荷稳定性或电荷陷阱的构造具有显著的影响,即使90℃,0.5h的等温结晶化处理也能显著地加深其电荷陷阱、改善电荷的稳定性.而且随着等温结晶化温度的提高和时间的延长,电荷陷阱进一步被加深、电荷稳定性进一步被改善,如130℃,2h以上的等温结晶化情形.衰减全反射红外分析和宽角X射线衍射分析表明,电荷稳定性的改善归因于PP膜的组成和结构变化.
引用
收藏
页码:6508 / 6513
页数:6
相关论文
共 2 条
[1]   氟气处理孔洞聚丙烯膜显著改善的电荷存储特性 [J].
安振连 ;
赵敏 ;
汤敏敏 ;
杨强 ;
夏钟福 .
物理学报, 2008, (09) :5859-5862
[2]  
X. Zhang,and Z. Liu. Applied Physics Letters . 2004