大豆“两垄一沟”栽培法冠层中光分布特点的研究

本文于大豆鼓粒期（R5）晴天条件下,对“两垄一沟”栽培法冠层内叶面积指数、光照强度、干物质积累的垂直分布特点进行了研究。结果表明,该栽培法整个冠层叶面积指数大。从冠层内空间分布看,叶面积指数最大值出现的植株部位高度比70cm大垄和50cm窄行平播低,中部的光照强度高。但冠层内消光系数小。说明“两垄一沟”栽培法改善了冠层中的光照条件,提高了光能的截获率,积累了更多的干物质。