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高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响
被引：10
作者：
郭晓楠
沈以赴
周亦胄
何冠虎
周本濂
机构：
[1] 中国科学院金属研究所
[2] 中国科学院金属研究所!中国科学院国际材料物理中心
来源：
关键词：
脉冲电流;
延伸率;
位错;
D O I：
暂无
中图分类号：
TG14 [金属材料];
学科分类号：
摘要：
采用高密度单脉冲电流（SHCDE）处理H62，针对其力学性能的变化，从理论上计算了处理后所产生的温升，分析了高密度脉冲电流对材料的影响所导致的电致塑性．
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