绿豆下胚轴质膜氧化还原系统及其对水分胁迫的反应

绿豆幼苗下胚轴质膜存在有能氧化ＮＡＤＨ和还原Ｋ３Ｆｅ（ＣＮ）６的氧化还原系统。其最适ｐＨ为７．５，最适温度为４０℃，去垢剂ＴｒｉｔｏｎＸ－１００对膜制剂的氧化还原活性有促进作用。外源电子供体ＮＡＤＨ和电子受体Ｋ３Ｆｅ（ＣＮ）６的加入可促进下胚轴组织的Ｈ＋分泌。水分胁迫下活体质膜和离体质膜的Ｋ３Ｆｅ（ＣＮ）６还原活性都下降，变化趋势相似。