共 2 条
半导体复合体系对表面活性剂及印染废水的光催化降解研究
被引:12
作者:
岳林海
樊邦棠
机构:
[1] 浙江大学化学系
来源:
关键词:
印染废水;
光催化;
光照;
复合体系;
光化学反应;
COD;
光老化;
光降解;
半导体复合;
D O I:
10.15985/j.cnki.1001-3865.1994.02.007
中图分类号:
X791 [纺织、印染工业];
学科分类号:
摘要:
本文研究了半导体复合光催化体系ZnO—CuO对印染助剂十二烷基苯磺酸钠(LBS)和平平加O及实际印染废水的光降解处理。对于COD为830mg/1、色度为3027.5的印染废水,经光照4小时,脱色率达100%,COD去除率达80%。
引用
收藏
页码:24 / 26+10
+10-47
页数:5
相关论文