半导体复合体系对表面活性剂及印染废水的光催化降解研究

被引:12
作者
岳林海
樊邦棠
机构
[1] 浙江大学化学系
关键词
印染废水; 光催化; 光照; 复合体系; 光化学反应; COD; 光老化; 光降解; 半导体复合;
D O I
10.15985/j.cnki.1001-3865.1994.02.007
中图分类号
X791 [纺织、印染工业];
学科分类号
摘要
本文研究了半导体复合光催化体系ZnO—CuO对印染助剂十二烷基苯磺酸钠(LBS)和平平加O及实际印染废水的光降解处理。对于COD为830mg/1、色度为3027.5的印染废水,经光照4小时,脱色率达100%,COD去除率达80%。
引用
收藏
页码:24 / 26+10 +10-47
页数:5
相关论文
共 2 条