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Mo含量对Raney Ni-Mo活性阴极析氢过电位的影响
被引:2
作者
:
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机构:
高润生
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机构:
苏清茂
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机构:
张斌
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机构:
帅志清
柯家骏
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引用数:
0
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0
机构:
中国科学院化工冶金研究所
柯家骏
机构
:
[1]
中国科学院化工冶金研究所
来源
:
表面技术
|
1994年
/ 01期
关键词
:
Mo;
Raney Ni-Mo;
析氢过电位;
D O I
:
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.1994.01.011
中图分类号
:
TQ153 [电镀工业];
学科分类号
:
摘要
:
利用喷涂技术在Raney Ni-Mo活性阴极的基础上研制出了RaneyNi-Mo活性阴极,该阴极的析氢过电位比Raney Ni低,电化学特性比Raney Ni稳定.Raney Ni-Mo中的Mo含量不同,其析氢过电位不同,Mo含量存在一个最佳值,此值与Raney Ni合金中Ni/Al比有关,而与涂层厚度无关.
引用
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页码:36 / 38
页数:3
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