变线距光栅线密度的干涉测量

被引：5

作者：

朱向冰

付绍军

叶为全

何世平

陈瑾

刘颖

徐向东

洪义麟

机构：

[1] 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学工程科学学院,安徽师范大学物理系,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室合肥,安徽师范大学物理系,芜湖,合肥,合肥,合肥,芜湖,合肥,合肥,合肥

来源：

光学学报 | 2003年 / 11期

关键词：

物理光学; 变线距光栅; 线密度; 干涉测量;

D O I：

暂无

中图分类号：

O436.1 [干涉与衍射];

学科分类号：

摘要：

变线距光栅在同步辐射装置、激光核聚变装置上有着广阔的应用前景 ,它的制作和检测方法尚未成熟。用干涉法测量变线距光栅的线密度 ,给出了测量原理、实验中的光路、数据处理的方法、测量结果。在待测光栅表面 ,衍射光干涉条纹的数量和密度是入射光干涉条纹和倍增后光栅的刻线之差。采用共光路的方案 ,使光路具有很强的抗干扰能力。用中值滤波消除干涉图像中的干扰。针对不同的干涉条纹 ,讨论和比较了两种测量方法 ,提出相对密度不变性。证明了干涉法完全可以用于变线距光栅的线密度测量 ,并能达到一定的精度 ,初步解决了检测问题 ,认为这种方法也可以用于变线密度光栅的加工中。

引用

页码：1354 / 1358

页数：5

共 6 条

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